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XRF電鍍測厚儀X-RAY膜厚測量儀XRF-2000

更新時間:2024-11-05

簡要描述:

韓國XRF-2020測厚儀
X-RAY膜厚測量儀X射線鍍層測厚儀應(yīng)用
快速無損檢測電子電鍍層厚度
可測單鍍層,雙多鍍層,多鍍層及合金鍍層
XRF電鍍測厚儀X-RAY膜厚測量儀XRF-2000

XRF電鍍測厚儀X-RAY膜厚測量儀XRF-2000

應(yīng)用原理:


覆蓋層單位面積質(zhì)量

(底材需為已知,覆蓋層線性厚度)

和二次輻射強度之間存在一定的關(guān)系。對于任何實際的儀器系統(tǒng)

該關(guān)系首先已知單位面積質(zhì)量的覆蓋層校正標(biāo)準(zhǔn)塊校正確定。

若覆蓋層材料的密度已知,同時又給出實際的密度

則這樣的標(biāo)準(zhǔn)塊就能給出覆蓋層線性厚度。


熒光強度是元素原子序數(shù)的函數(shù),如果表面覆蓋層、中間覆蓋層

如果存在)以及基體是由不同元素組成或一個覆蓋層由不止一個元素組成

則這些元素會產(chǎn)生各自的輻射特征。

可調(diào)節(jié)適當(dāng)?shù)臋z測器系統(tǒng)以選擇一個或多個能譜,

使此設(shè)備既能測量表面覆蓋層又能同時測量表面覆蓋層

和一些中間覆蓋層的厚度和組成。


X熒光鍍層測厚儀測試報告:包括下列內(nèi)容:


1.本標(biāo)準(zhǔn)的編號;

2.試樣的準(zhǔn)確標(biāo)識;

3.測量日期;

4.試樣上測量位置;

5.平均每份報告的測量次數(shù);

6.尺寸不同,要標(biāo)明準(zhǔn)直器孔徑和測量面積大小;

7.測量數(shù)值;

8. 用于X熒光厚度計算的密度值及使用理由;

9.報告的測量值具有代表性的標(biāo)準(zhǔn)偏差;

10.與本標(biāo)準(zhǔn)方法的差別:

11.可能影響報告結(jié)果解釋的因素:

12.實驗室名稱和操作者姓名;

13.近期的校準(zhǔn)證書或其他可接受的參考標(biāo)準(zhǔn)塊的使用及溯源。

韓國MicroP XRF-2020膜厚儀

XRF-2020測厚儀X-RAY膜厚儀原理應(yīng)用

檢測電子電鍍,五金電鍍,PCB板,LED支架半導(dǎo)體連接器等電鍍層厚度。

測量鍍金、鍍鋅、鍍鈀、鍍鉻、鍍銅、鍍銀、鍍錫、鍍鎳,鍍鋅鎳合金等


X-RAY膜厚測量儀X射線鍍層測厚儀應(yīng)用

可測單鍍層,雙多鍍層,多鍍層及合金鍍層

鍍銀測量范圍0.1-50um

鍍鎳測量范圍0.5-30um

鍍銅測量范圍0.5-30um

鍍錫測量范圍0.5-50um

鍍金測量范圍0.03-6um

鍍鋅測量范圍1-30um

鋅鎳合金測量范圍1-25um

鍍鉻測量范圍0.5-25um


XRF電鍍測厚儀X-RAY膜厚測量儀XRF-2000:快速無損測量電鍍層厚度



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